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四月二十六日。

硅谷。

gca总部。

“公司拿出200万美元奖励gca3500b项目部。”

周五下午，孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话，第二天就乘飞机来到硅谷。

啪啪……

艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容，扬眉吐气。

gca光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，安装在一台gca3500a光刻机上，制程工艺突破350nm，通过多次测试，最高达到320nm，命名为gca3500b，制程工艺超过nikon3500b光刻机，还提升47%的生产效率，创了新的世界纪录！

去年底研制成功gca3500a是一个巨大的突破，与nikon3500b光刻机的制程工艺看起来相同，但由于安装有适合8英寸晶圆和500nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，gca3500a的制程工艺和生产效率明显超过nikon3500光刻机，经过sematech专家组技术认证后，ii、amd和hp半导体设备公司预定了五台gca3500a光刻机。

紧接着，gca股东大会通过并实施向10名特定投资者以每股1.5美元的价格，定向增发10亿新股的方案，其中peng购买了3亿股，atic购买了2亿股，gca融资145500万美元，现金流大增，召回和招聘了400多名研发人员和技术工人，启动了3条光刻机半导体设备生产线，如今能同时生产五台gca3500a光刻机。

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