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第九五六章 研发极紫外光

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前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术,生产成功浸没式光刻机,但半导体产业更新换代迅速,导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML,从此,全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。

前世由于ASML独有的EUV光源无人能够研制,国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力,以美国为首的西方国家并没有限制ArF准分子激光器和ArFi准分子激光器的出口。

BSEC可以直接进口市场价45五万美元一台的GCA牌ArF准分子激光器,购买蔡司公司生产的光学系统,进口6英寸晶圆,加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统,就能生产1um制程工艺的光刻机,虽然6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线,但在国内还大有市场。

BSEC就可以活下来!

理想很美好,但现实很骨感,BSEC就是能制造1um制程工艺的光刻机,不代表能生产6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线!

国内缺乏半导体生产线设备的全产业链,如今都压在了BSEC的肩上。

BSEC生产的1um制程工艺的光刻机也没有晶圆公司会用!

谁投资谁倒霉,这就是“造不如买、买不如租”的主要原因!

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