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以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家鉴定组，通过现场测试，专家组组长黄坤亲自书写鉴定报告。

京城半导体设备股份有限公司研发成功的光刻机双工作台系统，在现场，对磁悬浮式双工作台系统进行了十次测试，能提升芯片制程工艺精度15%，提高芯片生产效率35%，还有不断提升的潜力，这项发明在光刻机专利技术中属于世界首创，属于重大核心技术发明，强烈推荐申请公司发明专利。

十二名专家组成员在鉴定报告上签名同意。

魏建国下午四点拿到鉴定报告，四点半来到国家专利局，递交了公司发明专利的申请，公司发明专利申请被受理，将向社会公示六个月。

磁悬浮式光刻机双平台系统是世界光刻机核心技术中的首创技术，京城半导体设备公司通过国家专利局将向美国、日本、荷兰、韩国、德国和法国的国家专利局申请公司发明专利。

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“恭喜孙健！”

一直忙得焦头乱额的朱领导接到专利局秦局长的汇报后，心情愉悦，他一直关注京城半导体设备公司的建设和整合情况，打电话向孙健祝贺，心里感叹，不愧是国内首富，一个突发奇想，三个月不到的时间，公司就研发成功一项光刻机行业首创的重大核心技术专利，其他光刻机公司今后想提高制程工艺精度和产量，除了自己投入巨资研发，都绕不过这项重大核心技术专利。

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