蓝河科技最基础的部署战略已走出第一步, 一条攻破高阶国产光刻机技术的科技链已有了雏形，接下来的技术攻破才是重中之重的难点。

盛明安和沈问冰谈完具体的细节以及一些ArF光刻胶技术难点的看法后，离开甬城, 回到津市, 而沈问冰就ArF光刻胶及配套材料研发项目收集资料，准备申请立项, 估计通过几率很高。

高端光刻胶及配套材料的研发和产业化本来就在国家02专项项目里, 按前世轨迹，ArF光刻胶（193nm光刻胶）将在三年后由南大光电申请通过立项, 获得国家科研基金资助, 于立项后的两年内完成验收。

现在盛明安介入, 也只是提前让ArF光刻胶被研发出来，研发团队和专项所属权仍然属于原主。

盛明安完成初步战略部署后, 马不停蹄赶回蓝河科技研发部准备光源系统的研发, 几乎没有停下来喘口气的机会。

不只是他，整个蓝河科技所有人都像陀螺似的忙得晕头转向。

系统好奇盛明安为什么不自己独立攻破光刻机所有核心技术？

他有前世的记忆，他熟知光刻机几十上百项核心技术, 足以轻而易举的攻破, 而不必像现在这样全国四处寻找科研团队，费尽口舌说服他们跟蓝河科技合作。

如果盛明安一个人研发出光刻机, 所有专利都将属于他。

专利带来的财富和名誉源源不断, 国内任何一家科技公司想为他生产制造光刻机的材料譬如晶圆、光刻胶或者双工作台, 都得花钱从他手中买下生产这些材料的专利费用，更别提之后完成的高阶光刻机。

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