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28纳米光刻机。

28纳米已经是目前炎国国内光刻机的顶尖水平。

在目前全球光刻机市场中，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，他们占据了全球99%的市场份额。

佳能和尼康主要生产22纳米的“低端”DUV光刻机，而ASML大部分产品都是更高端的EUV光刻机。

DUV和EUV实际区别就是光源，DUV指“深紫外线”，EUV指“极深紫外线”，听名字就能感觉到EUV技术更加牛逼。

确实也是如此，DUV光刻机的光源波长为193纳米，EUV光源波长为13.5纳米，而且EUV光源并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来的。

在光源波长越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波长为193纳米的DUV光源一般只能实现25纳米制程，I凭借工作台模式做到了10纳米，但后续再也无法突破10纳米。

太积电也强行用DUV光源生产过第一代7纳米芯片，但是是通过DUV多重曝光实现的，不但工艺复杂，良品率低，其实上所谓的7纳米还有很大水分，太积电也是在第二代7纳米芯片的时候就全面换成EUV光源了。

也就是说，DUV光源做做28纳米、56纳米的制程还行，但涉及7纳米、5纳米，DUV几乎没戏，只能靠EUV技术。

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